研究開発

クリエイティブな技術でお客様の問題を解決するナノ素材ベースのソリューション企業

保有技術

INTREEはディスプレイ及び半導体分野における専門的なファウンドリー力量と高付加価値応用技術を基にして、 次世代電子素子及びデバイスのコア技術基盤を確保しています。
当社は、技術ロードマップに基づき、次の3つの核心領域を中心に、国内外の顧客企業に最適化な高精度製造ソリューションを提供しております。

POINT 01
ディスプレイ·ファウンドリー
  • · OLED Anode 電極製造技術
  • · μ-OLEDoS Anode電極製造技術
  • · PDL (Pixel Definition Layer) 形成製造技術
  • · μ-LEDポンプ製造技術
POINT 02
半導体ファウンドリー
  • · TGV(Through Glass Via)加工技術
  • · RDL(Redistribution Layer)形成技術
  • · Via Hole加工メッキ技術
  • · Cu Pillar Bump製造技術
POINT 03
応用技術 (Toxic Free)
  • · Morie Free NAS製作技術
  • · 車両ライトロゴレンズの応用
  • · 高速通信デバイス応用