- 保有技術
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INTREEはディスプレイ及び半導体分野における専門的なファウンドリー力量と高付加価値応用技術を基にして、 次世代電子素子及びデバイスのコア技術基盤を確保しています。
当社は、技術ロードマップに基づき、次の3つの核心領域を中心に、国内外の顧客企業に最適化な高精度製造ソリューションを提供しております。
POINT 01
ディスプレイ·ファウンドリー
- · OLED Anode 電極製造技術
- · μ-OLEDoS Anode電極製造技術
- · PDL (Pixel Definition Layer) 形成製造技術
- · μ-LEDポンプ製造技術
POINT 02
半導体ファウンドリー
- · TGV(Through Glass Via)加工技術
- · RDL(Redistribution Layer)形成技術
- · Via Hole加工メッキ技術
- · Cu Pillar Bump製造技術
POINT 03
応用技術 (Toxic Free)
- · Morie Free NAS製作技術
- · 車両ライトロゴレンズの応用
- · 高速通信デバイス応用

